아토, 반도체 제조장치 세정 시스템 특허

아토는 4일 공시를 통해 반도체 제조 장치의 챔버 세정 장치 및 방법에 관한 특허를 취득했다고 밝혔다. 이는 불소 가스 및 산화질소계열 가스를 이용하는 CVD 챔버의 세정 시스템을 위한 것이라고 회사측은 덧붙였다.

한경닷컴 정현영 기자 jhy@hankyung.com