포스텍,펜타센 나노패턴 기술 개발

[한경닷컴] 포스텍 포항가속기연구소(PAL)는 29일 황찬국 빔라인부 책임연구원팀이 포항방사광가속기(전자를 빛의 속도에 가깝게 가속해 저장링에 입사시킨 다음 방사광을 발생시키는 거대 연구시설)의 극자외선을 이용한 ‘펜타센 나노패턴’ 기술을 개발했다고 밝혔다.

이 연구성과는 미국화학회에서 발행하는 나노분야 권위지 ‘에이씨에스 나노(ACS Nano)’최신호에 실렸다.
연구진은 펜타센 분자(다섯 개의 벤젠 분자가 붙어있는 방향족 고리 화합물로 전하 이동도가 높아 유기 반도체용 소재로 활용)가 극자외선에 의해 상호결합이 일어난다는 사실을 확인하고 이를 이용해 수십 나노미터급 분자 패터닝에 성공했다.

실리콘 기판 위에 펜타센 분자막을 덮고 극자외선(X선과 자외선 사이 파장을 가진 빛)을 쬐면 극자외선을 받은 부분은 상하좌우로 분자들이 상호결합을 하고, 받지 못한 부분은 탈착이 일어나기 때문에 나노미터 수준의 반도체 미세패턴 인쇄가 가능하다는 설명이다.

황찬국 연구원은 “폴리머나 화학적자기조립법을 이용한 분자막 등을 통한 기존 공정보다 열적 안정성이 뛰어나며 불순물 등을 거의 남기지 않는 것이 특징”이라며 “메모리반도체 뿐 아니라 태양전지 광학장치 등의 집적도와 효율을 높이는 데 활용할 수 있을 것“이라고 말했다.

이해성 기자 ihs@hankyung.com