투광성 전도성 접착력등 물성이 우수한 투명도전성필름 제조기술이
국내에서 개발됐다.
5일 한국과학기술연구원(KIST)에 따르면 고분자부 김정화박사팀이 투명도
전성필름을 제조하는 새로운 기술을 개발했다는 것이다.
**** 투광성/접착력등 물성 우수 ****
일반적인 고분자필름과 달리 전기를 통하는 특성을 지닌 전도성필름은
필름 자체가 전기를 통하는 불투명전도성 필름과 일반 필름에 전도성 물질을
입힌 투명전도성필름의 두 종류가 있다.
김박사팀은 폴리에스테르 필름에서 산화인듐이나 산화주석등 전도성금속
산화물의 막을 입히는 기술을 개발, 투광성 접착력등이 향상된 새로운 투명
전도성필름을 제조했다.
이 필름은 가시광선의 80%이상을 투과시키며 전도영역도 대전방지영역에서
반도체영역까지로 넓다는 것.
또 기존기술로 제조한 투명도전성필름의 경우 필름위에 피복한 도전성물질이
잘 벗겨져 보호막을 추가로 만들어야 하나 이 기술로 제조한 필름은 별도의
보호막을 만들지 않아도 될 정도로 접착력이 우수해 내구성이 뛰어나다는
것이다.
이번에 개발한 투명도전성필름은 반도체 제품의 성능한정화용 포장재료나
전자파차폐용 재료, 액정등의 표시장치용 소재, 평면발열체, 투명스위치등에
이용될 수 있을 것으로 기대되고 있다.