미 뒤퐁사가 기존 프레온가스 (CFC)를 대체할 새 프레온물질을 개발,
한국 일본등 14개국에 특허를 출원함으로써 이들 나라의 환경관련산업에 큰
타격을 줄 것으로 우려되고 있다.
환경관련국제조약인 몬트리올의정서는 오존층을 파괴하는 이 가스생산을
규제하고 있어 이들 대체품이 냉장고 자동차 전자부품등 산업전반에 걸쳐
독점적인 특허권행사를 할 것으로 보인다.
16일 관계당국및 업계에 따르면 미 뒤퐁사는 염화니켈(NiCL2)촉매를 사용,
테트라클로로에틸렌을 플로르화수소(HF)와 반응시킨 프레온123(CF3 CHCL2)
과 프레온 124(CF2 CHCIF)를 개발, 세계특허협력조약(PCT)의 절차에 따라
각국에 특허를 출원했다.
이 특허는 작년말 우리나라에 출원돼 곧 공개된다.
*** 비싼 로열티 지불하는등 어려움 겪을듯 ***
오존층을 파괴하지 않는 것으로 알려진 대체품은 분자구조와 제조
방법이 간단하고 한정돼 있어 이 특허가 성립되면 환경산업체들이 큰
영향을 받을 전망이다.
국내에서도 한국과학기술연구원과 관련업체들이 이들 대체품을 연구하고
있으나 이 특허의 보호범위에 따라선 비싼 로열티를 지불해야 하는등
어려움을 겪게 된다.
뒤퐁사는 이외에도 최근 오즌층파괴물질의 하나인 할론가스에 대한
대체품을 개발, 특허출원할 움직임을 보이고 있어 환경산업분야에서의
독점적인 지위확보를 꾀하고 있다.