미AT&T벨연구소가 반도체생산공정의 효율성을 크게 높일 건식 리소
그래픽공정기술을 개발했다.

26일 AT&T벨연구소는 이기술이 고기능 포토레지스트(감광제)를 침전
시킬때 액체대신 가스(플라즈마)를 사용하는 것이 특징이라고 밝혔다.

연구소측은 기존의 습식리소그래픽공정기술과는 달리 이기술을 사용
하면 생산공정이 크게 줄어들것이라고 설명했다. 또 클린룸(청정실)이
따로 필요없기 때문에 일반제조업체의 생산라인처럼 연결된 공간에서
작업을 진행할수 있다고 덧붙였다.