1.6메가D램이상의 고집적반도체 소자를 만드는데 필수적인 첨단기기인
감광목막 제거장비가 순수 국내기술에 의해 개발됐다.

현대전자는 반도체제조공정중 웨이퍼에 회로패턴을 형성할때 사용한
감광막을 플라즈마에 의한 회로손상을 최소화하면서 없앨수 있는 장비를
국내에서는 처음으로 개발했다고 20일 밝혔다.

이 장비는 반도체제조공정에서 가장 자주 쓰이는 기기로 현대측은 국산화
율을 80%이상 끌어올려 앞으로 연간 7백만달러상당의 수입대체효과를 거둘
수 있을 것으로 설명했다.

또 이번 개발로 반도체 장비용 소프트웨어와 하드웨어의 자체설계가 가능
해져 국내 반도체장치산업이 한층 활성화될 것으로 회사측은 전망했다.