아남반도체설계는 일본 토판사및 미국 포트로닉스사와 포토마스크관련기술
및 판매협약을 체결하고 이분야 사업을 강화한다고 14일 밝혔다.

아남반도체설계는 이회사들과 포토마스크에 관련된 기술을 상호교환하고 2
백56메가D램및 1기가D램용 포토마스크인 패이즈 시프트 마스크(phase shift
nasr)와 X레이용 마스크를 공동개발키로 했다.

포토마스크란 반도체설계도면이 입혀진 반도체모판으로 이를 만드는 과정은
반도체제조의 핵심요소공정중 하나이다. 국내에서는 한국듀폰등이 반도체제
조업체의 외주를 받아 포토마스크사업을 벌이고 있다.