한국베리안(대표 서성기)이 박막증착(Sputter)과 화학증착(CVD)를
동시에 할수 있는 복합반도체장비를 국내 처음을 개발했다.

25일 이온주입기등 반도체장비를 생산하는 이회사는 2년동안 10억원의
연구개발비를 들여 이같은 복합장비(Cluster Toll)를 국산화하고 반도체
생산업체에 연구개발용으로 공급한다고 밝혔다.

이장비는 3개의 모듈을 장착해 회로의 형성이나 차단에 필요한 물질이나
보호물질을 웨이퍼위에 미세한 박막으로 증착시키는 박막증착기와 금속을
화학적으로 증착시키는 CVD기능을 필요에 따라 선택 사용할 수 있어
효율적으로 장비를 활용할 수 있다.

이에따라 반도체생산업체가 차세대형 반도체를 양산하는데 필요한 연구
개발용장비를 국내에서 저렴한 가격으로 구입할수 있게 됐다.

회사측은 소프트웨어와 콘트롤러를 독자적으로 설계,개발했으며 이제품을
MS2100모델로 판매할 계획이다. 이회사는 경기도 송탄공장에 연산능력
10대의 조립생산설비를 갖추고 있다.

지난 85년 설립된 이회사는 이온주입기 박막증착기의 조립생산및 반도체
제조 주공정장비의 국산화에 주력해왔으며 시스템구성을 위한 부품의
절반정도를 자체 개발해왔다.