미쓰비시전기는 최근 1994년도반도체설비투자를 새로 150억엔 증액,

750억엔으로 확대한다고 발표했다. 증액분은 에히메현의 사이조공장의

생산설비증강에 충당한다. 선폭0.5미크롱의 미세반도체프로세스 생산

라인증강을 통해 DRAM, 플래시 메모리, 마이컴, 특정용도대상IC(ASIC)

생산능력을 늘린다. 퍼스컴용메모리와 마이컴수요가 증강된데 힘입어

NEC,후지쓰등 일본반도체업체들은 잇따라 설비투자를 강화하고있다.