4기가D램 "실용화" .. 후지쯔, 고해상도 회로설계에 성공
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[ 도쿄 = 이봉구 특파원 ]
후지쓰가 선폭 0.12마이크론(1마이크론는 1천분의1mm)의 회로를 사진으로
찍을수 있는 기술을 세계최초로 개발했다고 12일 발표했다.
지금까지 개발된 것으로는 1기가비트를 설계할수 있는 선폭 0.18마이크로가
최고기술이었다.
극미세설계에 필요한 이 기술이 개발됨에 따라 4가가D램을 제조할수
있게 됐다.
후지쓰는 불소화아르곤 엑시머레이저로 불리는 특수레이저를 이용,
가로 0.5마이크론, 세로 0.3마이크론짜리 미세면적에 메모리 기본소자의
회로도를 찍는데 성공했다.
후지쓰는 이 기술을 앞으로 생산될 1기가D램에 우선 적용한 다음
4기가D램으로 그 적용범위를 확대해나갈 방침이다.
반도체가공기술은 각사들이 1기가비트에 상당하는 선폭 0.18마이크론의
가공기술을 확립한 상태다.
단 이에앞서 선폭 0.12마이크론의 가공은 엑스선을 광원으로 이용하는
시도도 있었으나 자외선노광을 이용한 가공기술은 확립되지 않았다.
후지쓰는 이 성과를 미 하와이에서 개최하는 VLSI심포지엄서 12일
발표한다.
(한국경제신문 1996년 6월 13일자).
후지쓰가 선폭 0.12마이크론(1마이크론는 1천분의1mm)의 회로를 사진으로
찍을수 있는 기술을 세계최초로 개발했다고 12일 발표했다.
지금까지 개발된 것으로는 1기가비트를 설계할수 있는 선폭 0.18마이크로가
최고기술이었다.
극미세설계에 필요한 이 기술이 개발됨에 따라 4가가D램을 제조할수
있게 됐다.
후지쓰는 불소화아르곤 엑시머레이저로 불리는 특수레이저를 이용,
가로 0.5마이크론, 세로 0.3마이크론짜리 미세면적에 메모리 기본소자의
회로도를 찍는데 성공했다.
후지쓰는 이 기술을 앞으로 생산될 1기가D램에 우선 적용한 다음
4기가D램으로 그 적용범위를 확대해나갈 방침이다.
반도체가공기술은 각사들이 1기가비트에 상당하는 선폭 0.18마이크론의
가공기술을 확립한 상태다.
단 이에앞서 선폭 0.12마이크론의 가공은 엑스선을 광원으로 이용하는
시도도 있었으나 자외선노광을 이용한 가공기술은 확립되지 않았다.
후지쓰는 이 성과를 미 하와이에서 개최하는 VLSI심포지엄서 12일
발표한다.
(한국경제신문 1996년 6월 13일자).