[산업I면톱] LG화학, 감광제사업 신규 진출..미 회사와 합작

LG화학이 고부가가치 소재사업인 포토레지스트(photoresist:감광제) 사업에
신규 진출한다.

LG화학은 미국의 세계적 화학회사인 롬엔하스(Rohm & Haas)사와 합작,
99년말까지 국내에 포토레지스트 생산공장을 건설키로하고 14일 합작조인식을
가졌다.

양사는 49대 51의 지분으로 LG쉬프리사를 설립, 오는 99년말까지 모두
3천만달러를 투자키로 합의했다.

LG는 현재 전량 수입되고 있는 DUV(64메가D램이상 고집적반도체의
미세회로)용 등 차세대포토레지스트를 생산할 예정이다.

또 원료의 국산화도 동시에 추진,관련 제품의 일관생산체제도 갖출
계획이다.

포토레지스트는 고밀도 집적회로가 필요한 반도체와 TFT-LCD
(박막액정소자) 등 첨단 전자부품에 사용되는 감광제이다.

지난해 시장규모는 약 1천5백억원으로 추산되고 있다.

국내 자급율은 18% 정도로 64메가급 이상 고집적 반도체용은 전량 수입에
의존하고 있다.

< 권영설 기자 >

(한국경제신문 1998년 1월 15일자).