고분자 분리막을 사용,압축공기로부터 질소가스를 저렴하게 얻을 수 있는
장치가 국산화됐다.

국내최대의 액화가스 생산업체인 대성산소(대표 김영대)가 최근 상용화에
성공한 막분리식 질소가스 발생장치는 흡착제를 사용하는 기존 장치에 비해
설치비나 운전비 면에서 비용을 크게 줄일수 있는게 특징이다.

장치가 소형인데다 조작이 간편하기 때문이다.

흡착 재생과정이 없어 고장과 소음이 적으며 먼지 발생도 없다.

이 장치가 생산하는 질소가스의 순도는 95~99.9% 수준이다.

흡착제를 사용한 질소가스발생장치 보다 순도는 낮은 편이다.

하지만 이 정도 순도의 질소로도 사용 할 수 있는 틈새분야는 다양하다는
게 회사측의 설명이다.

화학공장등의 파이프등을 청소하거나 산화방지를 위한 식품 가공 및
저장시에 적합하다는 것.

열처리할때나 금속열처리로를 청소할때도 유용하며 납땜이나 레이저
가공시에도 적절히 쓰일 수 있다.

이번에 개발한 막분리 장치 기술의 핵심은 가스의 종류에 따라 투과 속도가
다른 고분자소재를 사용 한 것.

이 소재로 만든 중공사막의 내부로 압축공기를 넣으면 투과속도가 빠른
수분과 산소는 밖으로 빠져 나오는 반면 질소는 막 안쪽으로 농축되면서
배출부로 나온다.

질소 발생량은 시간당 0.3입방m에서 3백입방m까지 다양하다.

압축공기의 압력이 높을수록 질소가스 발생량은 증가한다.

(02)739-4590

< 오광진 기자 kjoh@ >

( 한 국 경 제 신 문 1998년 12월 29일자 ).