반도체공장의 웨이퍼 공정에 사용되는 포토레지스트(감광제)제거용 화학제인 "하이드록시라민 프리 베이스(HAFB)"의 공급이 크게 부족,반도체 업체들이 낭패를 겪고있다.

5일 업계에 따르면 지난 10일 일본 닛신화학 공장에서 폭발사고가 발생하면서 HAFB의 생산이 전면 중단됐다.

이에 따라 닛신화학로부터 HAFB를 공급받아온 업체들은 상당한 수준의 생산차질을 빚고있다.

HAFB 메이저 생산업체인 바스프는 설비확장 등 생산량을 늘리려고 하나 당장 수요를 따라잡기에는 역부족이다.

또 다른 반도체 재료 업체들은 HAFB를 대신할 웨이퍼 세정제를 활발히 모색중이지만 당분간은 HAFB의 공급부족이 불가피할 것으로 예상된다.

바스프 본사의 한 관계자는 이번 사태에 대해 "우리는 세계의 HAFB수요에 대처하기 위해 온갖 노력을 기울이고 있다"면서 독일 루드비히샤펜 공장의 생산량을 50%늘리고 미국에 제2공장 건설을 추진중이라고 말했다.

이 관계자는 "그러나 단기적으로는 물량 배정을 피할 수 없을 것"이라고 밝혔다.

일본 닛신화학의 HAFB공장은 2~3개월의 복구 기간이 필요한 실정이다.

HAFB는 전세계 반도체 공장의 80%가 사용하고 있는 화학제다.

< 이익원 기자 iklee@hankyung.com >