제어계측기 생산업체 코닉스는 열 플라즈마 공정기술을 적용,반도체 제조공정에서 발생되는 지구온난화 물질인 PFC가스를 처리할 수 있는 기술을 개발했다고 25일 밝혔다.

PFC가스는 이산화탄소(CO₂)보다 온난화 지수가 훨씬 높은 대기오염물질로 세계 반도체 제조업체들은 2010년까지 사용량의 10%를 감축키로 했다.

이에 따라 미국 한국 등 반도체 생산국가에는 PFC가스 제거에 대한 많은 연구가 진행되고 있다.

이번에 코닉스에서 개발한 반도체 유해가스 제거기술은 열 플라즈마가 초고온이라는 점을 이용했다.

열 플라즈마의 중심 온도가 1만도 이상이고 바깥온도도 1천도에 달하고 있어 일반적 방법으론 제거하기 힘든 PFC가스를 처리할 수 있다.

코닉스는 이 방법이 같은 양의 전력을 사용할 경우 기존에 개발된 저온 플라즈마나 고온 열분해 방식보다 PFC 제거 효율이 훨씬 높다고 설명했다.

코닉스는 열 플라즈마 공정기술을 개발한 연구팀을 분사시켜 난분해성 가스처리, 특수 폐기물 처리장치 등 플라즈마 기술을 응용한 제품을 생산할 계획이다.

송대섭 기자 dssong@hankyung.com