실리콘테크(대표 우상엽)는 일본의 반도체 장비업체인 대양동양산소와 0.1㎛(1㎛=1백만분의 1m)급 초미세 패턴을 형성하는 차세대 웨이퍼 세정에 적합한 아이스 블라스터 장비를 공동 개발키로 했다고 23일 발표했다.

양사는 연말까지 12인치급 웨이퍼 세정장비를 내놓을 계획이다.

대양동양산소는 8인치급 아이스 블라스터 장비를 세계 최초로 개발한 일본의 상장회사다.

실리콘테크는 대양동양산소로부터 미세한 얼음 알갱이를 만드는 얼음발생 장치를 넘겨받아 이 장비를 개발,반도체 생산공정에 투입할 계획이다.

종전에는 브러시로 먼지 등을 털어낸 뒤 발생하는 파티클을 세척했으나 초미세 패턴에 손상을 줄 수 있어 새로운 기술이 요구돼왔다.

아이스 블라스터 장비는 미세 얼음으로 세정하기 때문에 패턴에 손상을 주지 않아 수율을 크게 높일 수 있다고 회사측은 밝혔다.

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오광진 기자 kjoh@hankyung.com