삼성전자는 세계 최초로 0.13㎛급 초미세 공정기술을 적용한 IMT-2000 및 차세대 휴대폰용 8메가비트 초저전력 S램의 본격 양산에 들어간다고 5일 발표했다. 이 제품은 초미세기술이 적용돼 기존 제품보다 크기가 30% 축소됐고 생산성은 0.15㎛급 S램 제품에 비해 50% 이상 향상됐다고 삼성측은 설명했다. 0.13㎛급 16메가 S램 제품도 올 4분기에 출시할 계획이다.