나리지온은 2차원 전자가스총을 갖는 양자구조의 질화물 반도체 발광소자의 제작방법에 대해 특허를 취득했다고 14일 밝혔다. 또 P형GAN의 낮은 표면저항 및 높은 정공농도를 얻기 위한 표면처리방법에 대해서도 특허 취득했다. 회사는 이를 질화갈륨계 발광소자 등의 제작공정에 응용할 예정이다.투자액은 1억원이다. [한경닷컴 뉴스팀]