실리콘테크는 21일 웨이퍼 주변노광방법 및 장치에 대해 특허취득했다고 밝혔다. 이 특허는 반도체 제조공정에서 웨이퍼 주변의 불필요한 포트 레지스트의 일정폭을 자외선의 노광에 의해 제거하기 위한 웨이퍼 주변노광장치 및 방법에 관한 것이다. [한경닷컴 뉴스팀]