염색가공업의 열악한 작업환경을 개선시켜 줄 수 있는 청정기술장치가 개발됐다. 중소기업진흥공단은 서울대 재료공학부의 곽승엽 교수 연구팀 및 동국화공 풍아산업 갑을합섬 등 3개 중소기업과 '민·관·학' 협동으로 이 장치를 개발했다고 15일 밝혔다. 중진공은 이 프로젝트에 대한 투자와 설계·제작을,서울대 연구팀은 광촉매 나노 입자개발,중소기업들은 사업비 지원과 현장응용연구 작업을 각각 수행했다. 이번에 개발한 장치는 산화티타늄 광촉매 나노 입자를 이용해 염색가공 작업장의 유독성 기체를 제거하는 설비다. 중진공 윤대식 과장은 "기존 물 집진방식의 경우 유독성 기체의 분해율이 50%에 불과했으나 이 장치는 80%를 분해해준다"고 설명했다. 그는 "염색가공업에서 한국이 이탈리아 및 일본에 이어 세계 3위의 기술경쟁력을 유지하고 있는데 이 장치가 보급되면 경쟁력을 높일 수 있을 것"이라고 덧붙였다. (02)769-6947 양홍모 기자 yang@hankyung.com