삼성전자는 반도체 3백mm웨이퍼 전용라인인 경기도 화성공장 12라인에 6천2백88억원을 추가 투자키로 했다고 16일 밝혔다. 삼성전자는 화성공장 12라인에 올 상반기 1단계로 1조4천억원을 투자한 뒤 조기 양산체제를 가동하기 위해 지난 9월 5천50억원 규모의 2단계 투자를 실시한 바 있어 이번 투자로 12라인에 모두 2조5천3백38억원 규모의 투자가 이뤄지게 됐다. D램과 플래시 메모리가 생산될 12라인은 최근 양산체제에 돌입,현재 월 1만3천장의 웨이퍼가 투입되고 있으며 2단계 투자가 완결되는 내년 초에는 3백mm웨이퍼 파일럿 라인인 11라인과 전용라인인 12라인을 합쳐 총 3만5천장의 웨이퍼가 투입될 예정이다. 삼성전자는 또 화성공장 13라인에 대한 투자를 준비하기 위해 태스크포스를 구성,내년 중에는 월 1만장 규모의 13라인에 대한 투자도 본격화할 계획이다. 한편 삼성SDI도 PDP 3라인 건설을 위해 5천8백30억원을 투자하기로 했다. 충남 천안 공장에 건설되는 PDP 3라인은 42인치 PDP를 기준으로 월 최대 12만대를 생산할 수 있으며 내년 1월 착공에 들어가 10월 준공될 예정이다. 삼성SDI는 기존 1,2라인에서 각각 최대 5만대와 8만대(42인치 PDP 기준)를 생산하는데 이어 3라인 완공으로 월 최대 25만대의 생산이 가능할 것이라고 밝혔다. 회사 관계자는 "2라인에서 이미 1장의 유리원판에서 42인치를 기준으로 3장의 PDP를 한꺼번에 생산할 수 있는 세계 최초의 '3면취' 공법이 도입된 만큼 3라인에서는 3면취 이상의 첨단 공법이 적용돼 생산성을 더욱 향상시킬 것"이라고 설명했다. 강동균 기자 kdg@hankyung.com