한국화학연구원 미세공정기술연구센터 김광주 박사팀은 반도체 LCD기판의 에칭(etching) 공정에서 배출되는 폐액으로부터 초고순도의 인산 질산 초산을 회수해 재활용하는 기술을 세계 최초로 개발했다고 15일 발표했다. 이에 따라 그동안 소각처리해 오던 연간 3만t 규모의 폐에칭액을 재활용,연간 7백억원 상당의 비용을 절감할 수 있게 됐다. 김 박사 팀은 경막 용융 결정화기술을 이용해 TFT-LCD(초박막 액정표시장치) 제작공정에서 나오는 혼합산 폐에칭액으로부터 고순도 무기산을 회수,재활용하는 기술을 개발했다고 밝혔다. TFT-LCD 기판 제조공정 중 알루미늄 합금과 다층 금속막의 에칭과정에서 발생하는 폐액은 연간 3만t 규모에 이르고 있으나 재활용 기술이 개발되지 못해 전량 소각처리돼 왔다. 이로 인해 처리비용이 많이 소요됐을 뿐 아니라 황산화합물,질산화합물 등 유해물질을 대량 배출하는 문제점이 있었다. 회수된 초고순도 인산 질산 초산은 세라믹용 알루미나 에칭액,반도체 에칭액,분석시약,의약품 제조 등에 사용될 수 있다고 연구 팀은 설명했다. 임도원 기자 van7691@hankyung.com