주성엔지니어링 ICP 에쳐용 가스 확산판 특허취득

입력2004.08.26 14:00 수정2004.08.26 14:00

26일 주성엔지니어링은 ICP 에쳐용 가스 확산판에 관한 특허를 취득했다고 공시했다.

회사측은 ICP 에쳐용 가스 확산판 발명으로 에칭공정의 균일도가 향상됨으로써 우수한 품질의 반도체 소자를 제조할 수 있다고 설명했다.

한경닷컴 장원준 기자 ch100sa@hankyung.com

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