한국과 중국 일본 3국 정부는 특허 및 디자인을 포함한 산업재산권 전반의 제도 통일화 작업에 착수키로 했다고 일본 니혼게이자이신문이 26일 보도했다. 이 신문에 따르면 서로 다른 심사 방식의 통일을 추진하며 특허출원 절차 등을 간소화하기 위해 3국 당국자간 실무회의를 시작하기로 했다는 것이다. 실무회의에는 한ㆍ일 양국 특허청 실무자와 중국 지식재산국 당국자가 참가하며 이후 장관급 회의를 정기적으로 열어 제도통일 논의를 본격화하기로 했다고 이 신문은 밝혔다. 임도원 기자 van7691@hankyung.com