[BizⓝCEO] (주)뉴파워프라즈마‥반도체 공정용 플라즈마 발생 원천기술 확보
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< 이 기사는 BizⓝCEO 기획특별판 입니다 >
고유가와 환율하락, 중국의 급부상 등으로 인해 중소기업들이 어려움에 직면해 있다.
하지만 원천기술 확보에 사활을 걸어 경쟁력을 키워가는 중소기업도 있다.
반도체 가공을 위한 플라즈마 관련 부품과 장비를 개발ㆍ제조하고 있는 (주)뉴파워프라즈마(대표 최대규 www,newpower.co.kr)가 그 주인공. (주)뉴파워프라즈마는 전량 수입하던 반도체 웨이퍼 가공을 위한 플라즈마 발생 고주파 전원장치인 'RF Generator' 개발로 국산화하는데 성공, 이를 토대로 웨이퍼 공정에 쓰이는 지구온난화 방지 클리닝 장비인 'RPG'(Remote Plasma Generator) 원천기술까지 확보했다.
(주)뉴파워프라즈마의 원천기술은 환경친화적이기 때문에 더욱 가치를 인정받고 있다.
불순화합물가스의 분해율을 99% 이상으로 높였을 뿐 아니라 기존의 장비보다 전체 클리닝 효율을 높이고 내부 손상을 최소화시키며 클리닝 시간 단축으로 인한 생산성 향상 등의 장점을 갖추고 있다.
(주)뉴파워프라즈마의 경쟁력은 이미 세계적인 수준에 올라 있다.
세계에서 두 번째로 원천기술을 확보했고, 약 1천2백억으로 추정되는 세계시장에서 점유율 30%를 차지하고 있는데 향후 3~4년 내에 세 배 이상의 시장 확대가 예견되고 있어 사업전망도 밝다.
또한 'Gen Core ICP'를 장착한 반도체 전공정 애셔 장비를 개발, 감광제 제거 속도(Ash Rate) 및 생산성(Throughput) 등에서 세계 최고성능을 확인했다.
이 장비는 CF4 공정 등 애셔 전 스텝 공정처리가 가능하고 2 챔버 4 스테이지 챔버구성으로 한번에 웨이퍼 4장의 동시처리가 가능한 기존 대비 1.5배의 생산성을 가진 300㎜ 애셔 장비로, RPG 기술을 적용한 애셔장비를 세계 최초로 개발함으로써 기존 마이크로파 사용 장비의 세대변화를 이루었다.
플라즈마 관련 원천기술을 기반으로 플라즈마 소스, 부분 유닛, 장비에 이르는 종합 플라즈마 솔루션을 구축한 (주)뉴파워프라즈마는 "중국보다 싸게 미국보다 좋게"라는 슬로건을 가지고 반도체 전공정 장비의 완전국산화 실현을 위해 앞장서고 있다.
(주)뉴파워프라즈마는 관련 협회 및 조합과의 유기적인 협력과 산업자원부의 정책적 지원으로 많은 도움을 얻었고 해당 분야를 선도하는 기업으로 성장해 현재 제2의 도약기에 접어들었다.
원천기술을 개발해 수입대체 효과 역할을 톡톡히 해낸 (주)뉴파워프라즈마는 부품에서 시작, 장비분야로 확대했고 CP(Core Plasma)기술을 이용한 여러 종류의 장비 개발이 가능하므로 이에 더욱 역량을 집중하고 있다.
최대규 대표는 "해외 수출 확대를 위해 해외기술과 교류할 수 있는 창구역할을 할 곳이 필요하다"면서 "해외 판매에 있어 공동브랜드로 판매할 수 있는 시스템이 갖춰졌으면 하는 바람"이라고 강조했다.
최규술 기자 kyusul@hankyung.com
고유가와 환율하락, 중국의 급부상 등으로 인해 중소기업들이 어려움에 직면해 있다.
하지만 원천기술 확보에 사활을 걸어 경쟁력을 키워가는 중소기업도 있다.
반도체 가공을 위한 플라즈마 관련 부품과 장비를 개발ㆍ제조하고 있는 (주)뉴파워프라즈마(대표 최대규 www,newpower.co.kr)가 그 주인공. (주)뉴파워프라즈마는 전량 수입하던 반도체 웨이퍼 가공을 위한 플라즈마 발생 고주파 전원장치인 'RF Generator' 개발로 국산화하는데 성공, 이를 토대로 웨이퍼 공정에 쓰이는 지구온난화 방지 클리닝 장비인 'RPG'(Remote Plasma Generator) 원천기술까지 확보했다.
(주)뉴파워프라즈마의 원천기술은 환경친화적이기 때문에 더욱 가치를 인정받고 있다.
불순화합물가스의 분해율을 99% 이상으로 높였을 뿐 아니라 기존의 장비보다 전체 클리닝 효율을 높이고 내부 손상을 최소화시키며 클리닝 시간 단축으로 인한 생산성 향상 등의 장점을 갖추고 있다.
(주)뉴파워프라즈마의 경쟁력은 이미 세계적인 수준에 올라 있다.
세계에서 두 번째로 원천기술을 확보했고, 약 1천2백억으로 추정되는 세계시장에서 점유율 30%를 차지하고 있는데 향후 3~4년 내에 세 배 이상의 시장 확대가 예견되고 있어 사업전망도 밝다.
또한 'Gen Core ICP'를 장착한 반도체 전공정 애셔 장비를 개발, 감광제 제거 속도(Ash Rate) 및 생산성(Throughput) 등에서 세계 최고성능을 확인했다.
이 장비는 CF4 공정 등 애셔 전 스텝 공정처리가 가능하고 2 챔버 4 스테이지 챔버구성으로 한번에 웨이퍼 4장의 동시처리가 가능한 기존 대비 1.5배의 생산성을 가진 300㎜ 애셔 장비로, RPG 기술을 적용한 애셔장비를 세계 최초로 개발함으로써 기존 마이크로파 사용 장비의 세대변화를 이루었다.
플라즈마 관련 원천기술을 기반으로 플라즈마 소스, 부분 유닛, 장비에 이르는 종합 플라즈마 솔루션을 구축한 (주)뉴파워프라즈마는 "중국보다 싸게 미국보다 좋게"라는 슬로건을 가지고 반도체 전공정 장비의 완전국산화 실현을 위해 앞장서고 있다.
(주)뉴파워프라즈마는 관련 협회 및 조합과의 유기적인 협력과 산업자원부의 정책적 지원으로 많은 도움을 얻었고 해당 분야를 선도하는 기업으로 성장해 현재 제2의 도약기에 접어들었다.
원천기술을 개발해 수입대체 효과 역할을 톡톡히 해낸 (주)뉴파워프라즈마는 부품에서 시작, 장비분야로 확대했고 CP(Core Plasma)기술을 이용한 여러 종류의 장비 개발이 가능하므로 이에 더욱 역량을 집중하고 있다.
최대규 대표는 "해외 수출 확대를 위해 해외기술과 교류할 수 있는 창구역할을 할 곳이 필요하다"면서 "해외 판매에 있어 공동브랜드로 판매할 수 있는 시스템이 갖춰졌으면 하는 바람"이라고 강조했다.
최규술 기자 kyusul@hankyung.com