에스엔텍, 고가의 장비 없어도 광학렌즈 미세먼지 제거

클린룸 같은 고가의 청정생산시스템을 갖추지 않고도 휴대폰 카메라 등에 쓰이는 광학렌즈 표면 미세먼지 제거효율을 60%가량 높일 수 있는 장비가 개발됐다.

반도체 가공장비 생산업체인 에스엔텍(대표 안경준)은 최근 한국산업기술대 송용원 교수 연구팀(나노-광공학과)과 공동으로 기체를 이온화 시키는 플라즈마기술을 활용해 광학렌즈 미세먼지를 제거하는 '대기압(평상시 공기압) 플라즈마 클린공정시스템'을 개발했다고 18일 밝혔다.

이에 따라 지금까지 렌즈코팅시 이물질이 섞이지 않도록 손으로 닦아 주거나 화학약품 등으로 처리하는 기존 방식의 불편과 비효율이 크게 개선될 전망이다.

이 시스템은 전자와 양이온으로 분리시킨 기체 플라즈마를 렌즈 표면 유기물질이나 마이크론(㎛) 단위의 공기 중 미세먼지 입자에 충돌시켜 이온과 이물질을 화학적으로 결합시킨 뒤 배출하는 것을 핵심기술로 하고 있다.

미세먼지 및 렌즈 표면에 묻어있는 이물질이 대부분 탄소화합물이어서 플라즈마 이온과 충돌할 경우 CO2 등의 기체로 변하는 원리를 활용한 것이다.

특히 기존 플라즈마 이물질 제거기술이 주로 초박막액정표시장치(TFT-LCD) 표면 유기물 제거에 국한된 것과 달리 이 장비는 '직접흡입' 방식을 추가함으로써 미세먼지 제거 효율도 높였다는 것이 회사 측 설명이다. 안경준 대표는 "최근 휴대폰 카메라 렌즈 생산공정에 이 장비를 시험 적용해본 결과 미세먼지 제거 및 표면 세정능력이 기존 방식보다 60%가량 높아진 것으로 나타났다"고 말했다. 따라서 기존 작업으로는 약 50% 안팎에 그쳤던 수율(코팅처리시 성공 확률)도 80% 선까지 높아졌다는 것.

회사는 다음 달부터 이 장비를 본격 양산에 들어갈 계획이다. 안 대표는 "아직까지 같은 개념의 장비를 국내외 업체에서 개발하지 못한 데다 가격대(5000만~1억원)도 좋은 편이어서 내년까지 이 장비로 국내외에서 150억원의 추가매출을 올릴 수 있을 것으로 기대하고 있다"고 말했다.

이관우 기자 leebro2@hankyung.com