교육과학기술부와 한국과학재단은 6일 대면적(大面積) 나노임프린트 공정 및 응용기술을 개발한 한국기계연구원의 이응숙 박사(50)를 '이달(8월)의 과학기술자상' 수상자로 선정했다.

이 박사는 21세기 프론티어연구개발사업 지원과제인 '대면적 나노임프린트 공정 및 응용기술 개발'을 통해 50㎚(1㎚＝10억분의1m)급 나노패터닝이 가능한 나노임프린트 공정기술을 개발한 공로를 인정받았다. 나노임프린트는 반도체 제조공정에서 5㎚ 이하의 선폭도 구현할 수 있는 기술이다. 현재 반도체 공정의 핵심 기술로 쓰이고 있지만 더 이상의 소형화에 어려움이 있는 광 리소그래피 공정을 대체할 차세대 나노광 기술로 기대를 모으고 있다.

이 박사는 "이 공정기술을 사용하면 기존 나노임프린트 공정에 비해 10배 이상 공정 속도를 향상시키고 공정 단가와 장비 단가를 50% 이상 낮출 수 있다"고 밝혔다.

황경남 기자 knhwang@hankyung.com