[제17회 다산기술상] 기술상 대기업 부문 : 제일모직 수지합성 1그룹
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고효율 반도체 하드마스크 재료 개발
다산기술상 대기업부문은 제일모직의 수지합성 1그룹(그룹장 김종섭 상무·사진)이 수상했다. 수지합성 1그룹은 세계 최초로 메모리 반도체 상부에 규소와 탄소를 사용해 코팅이 가능한 반도체 패턴용 하드마스크 재료를 합성하는 데 성공한 점을 인정받았다. 특히 이 기술은 세계 유수의 반도체 소재 업체들을 제치고 국내에서 개발됐다는 데 의미가 크다. 회사 관계자는 "지금까지 불가능한 것으로 여겨져온 기술"이라며 "한국 재료업체의 위상을 높였다는 데 만족한다"고 설명했다. 기존 하드마스크는 규소와 탄소의 함량을 높이기 위해 화학증기압착법(CVD)을 사용했다. 이 방법은 초기 투자비가 많이 들고 화학증기가 뭉쳐서 생기는 불순물을 제거하기가 어려운 단점이 있었다. 회사는 이 같은 약점을 보완해 생산성을 높인 하드마스크 소재를 개발했다. 회사 관계자는 "반도체업체의 투자비를 절감할 수 있고 제조공정에서 수율도 높일 수 있다"고 말했다.
이 제품은 최근 메모리 반도체 세계 1위 업체인 삼성전자에 60㎚급 DRAM 양산 공정에 채택됐다.
회사는 향후 5년간 약 2000억원의 수입대체 효과를 볼 수 있을 것으로 예측하고 있다. 아울러 2012년까지 약 4000억원의 수출이 가능할 전망이다. 김종섭 상무는 "이번에 개발된 제품으로 연평균 29%의 성장이 예상된다"고 밝혔다.
다산기술상 대기업부문은 제일모직의 수지합성 1그룹(그룹장 김종섭 상무·사진)이 수상했다. 수지합성 1그룹은 세계 최초로 메모리 반도체 상부에 규소와 탄소를 사용해 코팅이 가능한 반도체 패턴용 하드마스크 재료를 합성하는 데 성공한 점을 인정받았다. 특히 이 기술은 세계 유수의 반도체 소재 업체들을 제치고 국내에서 개발됐다는 데 의미가 크다. 회사 관계자는 "지금까지 불가능한 것으로 여겨져온 기술"이라며 "한국 재료업체의 위상을 높였다는 데 만족한다"고 설명했다. 기존 하드마스크는 규소와 탄소의 함량을 높이기 위해 화학증기압착법(CVD)을 사용했다. 이 방법은 초기 투자비가 많이 들고 화학증기가 뭉쳐서 생기는 불순물을 제거하기가 어려운 단점이 있었다. 회사는 이 같은 약점을 보완해 생산성을 높인 하드마스크 소재를 개발했다. 회사 관계자는 "반도체업체의 투자비를 절감할 수 있고 제조공정에서 수율도 높일 수 있다"고 말했다.
이 제품은 최근 메모리 반도체 세계 1위 업체인 삼성전자에 60㎚급 DRAM 양산 공정에 채택됐다.
회사는 향후 5년간 약 2000억원의 수입대체 효과를 볼 수 있을 것으로 예측하고 있다. 아울러 2012년까지 약 4000억원의 수출이 가능할 전망이다. 김종섭 상무는 "이번에 개발된 제품으로 연평균 29%의 성장이 예상된다"고 밝혔다.