에스앤에스텍, 일본 호야와 특허무효소송 최종 승소

[한경닷컴]반도체 및 TFT-LCD용 블랭크마스크 전문업체인 에스앤에스텍(대표 남기수)이 일본 호야와의 3년4개월에 걸친 특허무효소송에서 최종 승소했다.

이 회사는 특허법원의 위상시프트 블랭크마스크(Phase Shift Blank Mask) 특허무효소송 판정에 대한 호야측의 상고를 대법원에서 기각했다고 1일 밝혔다.이번에 무효가 된 호야측의 특허는 반도체 제조시 패턴의 정밀도를 획기적으로 향상시킬수 있는 하이엔드급 위상시프트 블랭크마스크에 관한 것.이는 반도체 집적도가 향상됨에 따라 반도체 소자의 고해상도를 구현할 수 있는 필수 재료로 수요가 지속적으로 증가하고 있다.

회사 관계자는 “이번 승소로 현재까지 일본업체가 독점하고 있던 고부가가치 위상시프트 블랭크마스크 시장에 본격적으로 진출할 수 있는 전기를 마련했다”고 설명했다.

에스앤에스텍은 2002년 국내 처음으로 위상시프트 블랭크마스크 기술 개발에서 성공,일본업체들이 독차지했던 이 시장에 진출했다.그러나 2005년 9월 호야가 서울중앙지방법원에 특허침해소송을 제기하면서 특허분쟁에 휘말렸다.에스앤에스텍은 2007년과 2008년 특허심판원(1심)과 특허법원(2심)으로부터 모두 승소했다.한편 에스엔에스텍은 이달 14일께 코스닥에 상장될 예정이다.

김후진 기자 jin@hankyung.com