[한경닷컴] 반도체 산업폐수에서 발생하는 고농도의 질소(N)，인(P)，불소(F)를 동시에 제거할 수 있는 기술이 개발됐다.

24일 한국환경산업기술원에 따르면 이 기술은 성진엔지니어링(주) 이정훈 연구원팀과 충북대학교 환경공학과의 이상일 교수팀이 공동으로 개발했다.충청북도 청주시 공단의 반도체 사업장에서 배출되는 폐수에 적용해왔으며 장기간 처리 시설 운전을 통해 안정적인 처리 효율을 달성했다고 연구팀은 설명했다..

반도체 산업폐수는 고농도의 질소,인,불소 등 독성물질이 들어있고 이에 대한 효율적인 제거 방안을 찾지 못하는 실정이다.2003년 1월부터 배출수의 총질소(T-N) 규제가 확대 시행됨에 따라 최종 배출수의 총 질소를 60mg/L 이하로 관리해야 하는 업체에서는 총 질소 처리설비에 투자 또는 고농도 폐액을 수집 후 위탁처리하고 있는 실정이다.또한 2008년에 총질소 규제가 40mg/L，2012년 20mg/L 등으로 강화된 것을 감안하면 지속적으로 관련규제가 강화될 전망이다.

불소 역시 현재 15mg/L(일부지역 3mg/L) 규제로 인한 환경비용(폐수 및 위탁처리) 증가로 관련 업계의 원가 경쟁력을 크게 악화시키는 주요 요인으로 알려져 있다.

이번에 개발한 기술은 폐수 중에 존재하는 질소，인 및 불소 성분을 불화 칼슘(CaF2) 및 스트루바이트(유리결정형성)로 결정화해 제거하는 공법을 함께 적용시켜 수질을 개선함과 동시에 유기부산물인 스트루바이트를 퇴비로 사용할 수 있다.때문에 기존 화학처리 공법의 응집제 대체물질 개발을 통한 처리비용절감이 가능할 것으로 기대된다.

기술원 관계자는 “이 기술은 슬러지의 재사용을 통한 경제성을 확보할 수 있다는 장점이 있다”며 “시설도 기존에 비해 구조가 간단하고 폐수 처리시간이 짧아 현장 시공성 및 공간 활용 능력이 크게 향상됐다”고 말했다.

이정훈 성진엔지니어링 연구위원(박사)는 “이번에 개발한 ‘고농도 질소,인,불소 동시제거 기술’은 전자·전기 산업폐수 배출업종 뿐만 아니라 악성산업폐수를 방출하고 있는 화학폐수,정유폐수,광산폐수 등 산업체 폐수처리에 기술적,경제적 으로도 실효성 높게 응용할 수 있는 기술”이라고 설명했다.

최진석 기자 iskra@hankyung.com