테스는 12일 플라즈마 처리장치에 관한 특허를 취득했다고 공시했다.

테스 측은 "플라즈마 기판 배면에 직접 플라즈마 가스를 공급해 플라즈마를 발생시키고 플라즈마를 기판의 배면과 하부 전극 사이에 가두어 줌으로써 플라즈마의 분포 밀도를 높여 공정 시간을 단축시키고 공정 효율을 높일 수 있다"고 전했다.

한경닷컴 김효진 기자 jinhk@hankyung.com