삼성전자, 40조 더 투자한다
삼성전자가 40조원에 가까운 대규모 투자 계획을 내놨다. 3차원(3D) 낸드플래시를 중심으로 반도체에 30조4000억원, OLED(유기발광다이오드)에 9조원이다. 2021년까지 계획된 투자가 이뤄지면 직간접 고용유발 효과는 44만 명에 이를 전망이다.

삼성전자는 4일 경기 평택 반도체공장 1라인에서 웨이퍼 출하식을 열고 이 같은 투자 계획을 공개했다. 권오현 부회장은 “삼성전자 반도체의 미래를 위한 기념비적인 도전인 평택 반도체공장 건설이 성공적으로 이뤄졌다”고 평가했다. 삼성전자의 3D 낸드 생산량은 월 20만 장(웨이퍼 기준)에서 30만 장으로 늘어나게 된다.

삼성전자는 또 16조원을 투자한 평택 1라인에 2021년까지 14조4000억원을 추가로 투자해 생산량을 더 늘리겠다고 밝혔다. 화성 17라인 등에는 6조원을 들여 7㎚(1㎚=10억분의 1m) 공정 상용화도 추진한다. 이와 함께 중국 시안에 10조원을 들여 3D 낸드 추가 라인을 건설하기로 했다. 자회사인 삼성디스플레이도 9조원 규모의 OLED 신규 투자를 추진하기로 했다. 이미 글로벌 낸드플래시 메모리 시장의 35%, 모바일용 OLED 시장의 97%를 장악한 삼성전자는 이번 투자를 계기로 경쟁사들을 큰 격차로 따돌린다는 전략이다.

노경목 기자 autonomy@hankyung.com