KTB투자증권은 28일 후성이 반도체 특수가스 생산설비 증설로 중장기 실적 개선을 이룰 것으로 전망했다. 소재업종 최선호주 의견을 유지했다.

후성은 전날 554억원 규모의 반도체 특수가스 생산설비를 증설한다고 공시했다. 투자기간은 올해 12월부터 내년 12월까지다. 후성은 현재 반도체 D램과 3D 낸드(NAND) 핵심 소재인 WF6, C4F6를 양산 중이다.

김양재 연구원은 "2015년 투자로 미루어 볼 때, 이번 투자는 반도체 특수가스 한 개 품목을 약 2.5배 이상 증설한 것으로 추정된다"며 "WF6보다 C4F6 공급이 더 부족한 상황으로 시장 수요와 후성의 과점적 지위를 고려하면 나머지 품목도 추가 증설할 것"으로 예상했다.

대규모 설비 증설은 중장기 실적 개선과 직결된다고 평가했다.

그는 "내년부터 전방 반도체 신규 웨이퍼(Wafer) 투자가 확대될 것"이라며 "반도체 소재 수요는 가파르게 증가할 것으로 보인다"고 말했다. 국내 전방 수요 업체는 해외보다 국내 소재업체 조달 비중을 늘일 계획으로 국내 소재 업종이 수혜를 볼 것이라는 판단이다.

김 연구원은 "반도체 특수 가스는 과점 산업으로 수요처도 과점적 성격을 띈다"며 "이번 반도체 소재 대규모 증설로 후성은 내년에 가파른 실적 개선세를 나타날 것"으로 기대했다. 이어 "대규모 증설에도 반도체 특수가스 수급은 타이트할 것"으로 내다봤다.

김은지 한경닷컴 기자 eunin11@hankyung.com