"日 반도체 수출 규제 조치, 국내 생산에 미치는 영향 없을 듯"
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NH투자증권은 3일 일본의 반도체 소재 수출 규제 조치와 관련해 "레지스트(감광액) 규제는 EUV(극자외선·Extreme Ultra Violet)용에 한정되기 때문에 국내 생산에 미치는 영향은 없다"고 분석했다.
이 증권사 도현우 연구원은 "일본이 수출 규제를 둔 품목 중 레지스트는 EUV용 레지스트만 해당된다"며 "아직 삼성전자 등은 EUV 공정을 도입하고 있지 않아 국내 반도체 생산에 전혀 영향을 주지 않을 것으로 예상된다"고 했다.
이어 "현재 D램에서 주로 사용하고 있는 레지스트는 ArF 액침(Immersion) 노광장비용이고 3D 낸드 공정에서 주로 사용하고 있는 레지스트는 KrF 노광장비용"이라며 "일본 정부는 193nm 미만의 파장의 빛에 최적화된 레지스트만 규제하기로 했으니 이 둘은 규제에 해당하지 않는다"고 했다.
D램은 삼성전자가 1znm부터 1~2개 레이어에 EUV를 도입하기로 했지만 생산시점은 올 하반기부터로 EUV 레지스트 도입에 문제가 될 경우에도 공정에 문제가 발생하지 않는다는 게 도 연구원의 분석이다. 로직 반도체 7nm 공정에도 EUV를 적용할 계획이지만 이 역시 생산시점은 올 하반기다.
도 연구원은 "D램과 마찬가지로 7nm 공정도 사실 EUV가 꼭 필요하지는 않다"며 5nm에서 EUV의 활용도를 높이기 위해 미리 적용해보는 성격이 강하다"고 덧붙였다.
노정동 한경닷컴 기자 dong2@hankyung.com
이 증권사 도현우 연구원은 "일본이 수출 규제를 둔 품목 중 레지스트는 EUV용 레지스트만 해당된다"며 "아직 삼성전자 등은 EUV 공정을 도입하고 있지 않아 국내 반도체 생산에 전혀 영향을 주지 않을 것으로 예상된다"고 했다.
이어 "현재 D램에서 주로 사용하고 있는 레지스트는 ArF 액침(Immersion) 노광장비용이고 3D 낸드 공정에서 주로 사용하고 있는 레지스트는 KrF 노광장비용"이라며 "일본 정부는 193nm 미만의 파장의 빛에 최적화된 레지스트만 규제하기로 했으니 이 둘은 규제에 해당하지 않는다"고 했다.
D램은 삼성전자가 1znm부터 1~2개 레이어에 EUV를 도입하기로 했지만 생산시점은 올 하반기부터로 EUV 레지스트 도입에 문제가 될 경우에도 공정에 문제가 발생하지 않는다는 게 도 연구원의 분석이다. 로직 반도체 7nm 공정에도 EUV를 적용할 계획이지만 이 역시 생산시점은 올 하반기다.
도 연구원은 "D램과 마찬가지로 7nm 공정도 사실 EUV가 꼭 필요하지는 않다"며 5nm에서 EUV의 활용도를 높이기 위해 미리 적용해보는 성격이 강하다"고 덧붙였다.
노정동 한경닷컴 기자 dong2@hankyung.com