평택캠퍼스 P2 라인 전경/사진제공=삼성전자
평택캠퍼스 P2 라인 전경/사진제공=삼성전자
삼성전자가 평택캠퍼스 2라인에 낸드플래시 생산라인을 구축하는 투자를 단행한다.

1일 업계에 따르면 삼성전자는 지난달 평택 2라인에 낸드플래시 생산을 위한 반도체 장비 투입 전 공장인 클린룸 공사에 착수했다. 평택 2라인은 내년 하반기부터 본격 양산에 돌입할 예정이다.

삼성전자가 신종 코로나바이러스 감염증(코로나19) 여파에도 예정대로 투자에 나선 건 인공지능(AI), 사물인터넷(IoT) 등 4차산업혁명 도래와 5세대 이동통신(5G) 보급에 따른 중장기 낸드 수요 확대에 대응하는 차원으로 풀이된다.

코로나19로 촉발된 언택트(비대면) 라이프스타일 확산으로 이같은 추세가 한층 가속될 것이란 전망도 배경에 깔린 것으로 보인다. 삼성전자 측은 "적극적 투자로 미래 시장기회를 선점해나가는 전략"이라고 말했다.

2015년 조성된 평택캠퍼스는 삼성전자의 차세대 메모리 전초기지로 세계 최대 규모의 생산라인 2개가 건설됐다. 이번 투자로 증설된 라인에선 삼성 최첨단 V낸드 제품이 양산될 예정이다. 지난해 7월엔 업계 최초로 6세대 V낸드(100단 이상의 적층형 낸드) 제품을 양산한 바 있다.

화성과 평택, 중국 시안에 낸드플래시 생산라인을 운영하는 삼성전자는 앞으로도 국내외 균형있는 투자를 통해 안정적 글로벌 공급망을 유지, 초격차를 지속하겠다는 입장. 앞서 삼성은 지난 4~5월 500명 규모의 삼성전자와 협력업체 기술진을 시안 2공장 증설에 급파한 바 있다.

최철 삼성전자 메모리사업부 전략마케팅실 부사장은 "이번 투자는 불확실한 환경 속에서도 메모리 초격차를 더욱 확대하기 위한 노력"이라며 "최고의 제품으로 고객 수요에 차질없이 대응 해나가겠다"고 말했다.

배성수 한경닷컴 기자 baebae@hankyung.com