기술 유출범죄 근절 세미나 열려…양형기준 논의

특허청·민주 이학영 의원·한국지적재산권변호사협회 공동 개최

특허청은 13일 서울 강남구 '인터컨티넨털 서울 코엑스'에서 더불어민주당 이학영 의원, 한국지적재산권변호사협회와 공동으로 '기술 유출범죄와 양형기준 학술 세미나'를 열어 양형기준의 관점에서 기술 유출범죄 근절 방안을 모색했다.

국가정보원에 따르면 지난 5년 6개월간(2016.1∼2021.6) 해외 기술 유출로 인한 경제적 피해가 최소 20조원 이상인 것으로 추정된다.

반면 이런 기술 유출 사건의 기소율은 일반 형사사건(40%)의 절반 수준(20.5%)에 불과하고, 무죄율도 20배 이상 높다.

유죄로 인정돼도 형량이 법정형(최대 15년)의 절반에도 미치지 못하는 실정(최대 6년)이다.

이학영 국회 산업통상자원중소벤처기업위원회 위원장은 "기술 유출범죄 근절을 위해 형사처벌을 강화한 법 개정 취지를 달성하려면 양형기준도 그에 맞게 조정돼야 할 것"이라고 말했다.

김용래 특허청장은 "기술 유출행위가 국가의 경제와 안보는 물론 기업의 생존을 위협하는 중대한 범죄라는 인식이 자리 잡아야 할 것"이라며 "기술 유출을 중대범죄로 인식해 15년 이상의 중형을 선고하는 미국 사례를 참고할 필요가 있다"고 밝혔다.

/연합뉴스