100% 수입 의존 'EUV 소부장' 국산화

한양대 극자외선노광기술협의체

일본의 수출 규제, 코로나19, 미·중 갈등 심화로 기술 블록화 현상이 지속될 것으로 전망된다. 산업, 외교, 안보와 직결되는 국가 핵심 전략기술인 반도체 기술에 대한 미래 전략 필요성이 강하게 대두되고 있다.

안진호 센터장

극자외선 노광기술(EUVL)은 미래 지능형 반도체 소자 제작에 필수적인 기술이다. 10㎚(나노미터) 이하의 미세 패턴을 구현할 수 있는 기술이다. 메모리산업의 초격차를 유지하고 시스템 반도체 분야의 시장 점유율 확대를 위해 반드시 필요하다.

EUVL의 본격적인 생산을 앞두고 있는데 극자외선 노광용 소재, 부품, 장비의 국내 개발은 완성되지 않은 상황이다. 한양대 극자외선노광기술협의체는 EUVL 분야의 연구개발에 취약한 국내 기업을 지원하고 해외 글로벌 기업과의 협력 채널을 지원하기 위해 정부에서 지정받은 유일한 대학 주도 품목 지정 연구협의체로 출범했다.

20년 이상 EUV 관련 연구 수행 경험이 있는 13명의 국내외 전문가가 포진해 있으며 26개 이상의 기업이 멤버로 활동 중이다. 25년 이상 EUV 연구에 매진하고 있는 안진호 센터장은 기업의 기술 개발을 지원하고 있다.

안 센터장은 지금까지 대학의 연구와 기업의 상용화 기술 개발 사이에 많은 괴리가 있었다고 평가했다. 그 간격을 좁히기 위해 협의체가 연구 방향성을 제시하고 기업에는 우수한 연구 성과 도입을 통한 기술력 제고에 도움을 주고 있다고 설명했다.

현재까지 100회 이상의 컨설팅과 기술 지원을 했다. 해외 기관과 국내 기업의 연계를 위해 EUVL전시회 등 다수의 국제행사도 공동 주최하면서 대표성도 확보하고 있다.

이를 통해 협의체는 100% 수입에 의존하는 EUV 관련 소재·부품·장비(소부장)의 국산화에 나섰다. 세계시장 개척, 산학연 협력을 통한 세계 최고 수준 신기술 확보, 수요와 공급 기업의 동반 성장을 통한 반도체산업의 건전한 생태계를 마련할 것으로 전망했다. 또 전량 일본 수입에 의존하고 있는 EUV용 포토마스크 국산화, EUV 포토레지스트의 국산화 개발을 촉진시킬 것으로 기대된다고 밝혔다.

안 센터장은 “선진국에 비해 출발이 늦은 우리나라의 EUV 노광기술 개발이 세계 최초 양산 및 적용이라는 성과를 얻었다”며 “하지만 관련 소부장은 100% 의존하는 상황이라 지속적인 연구개발과 투자가 필요하다”고 지적했다. 이어 “협의체는 EUVL 관련 산업 성장을 위한 기업 지원과 기술 개발, 신규 일자리 창출 등을 위해 노력하겠다”고 밝혔다.

김진원 기자 jin1@hankyung.com