삼성전자 "4나노 수율 안정적…3나노 개발 라인 확보 준비"

삼성전자는 28일 진행한 올 1분기 실적발표 컨퍼런스콜(전화회의)에서 "파운드리(반도체 위탁생산) 5나노(나노미터·1㎚는 10억분의 1m) 공정은 성숙 수율(정상제품비율) 단계로 접어들었다"며 "4나노는 초기 수율 향상이 다소 지연됐지만 현재는 계획한 수율 구간에 진입했다"라고 시장의 우려를 불식시켰다.

이어 "3나노 공정은 선단 공정 개발 체계 개선을 통해 수율 향상 기간을 단축할 계획"이라며 "3나노 공정은 공급 안정화를 추진하고 신규 연구개발 라인 확보를 준비하고 있다”라고 했다.

강경주 한경닷컴 기자 qurasoha@hankyung.com