제우스, 전력반도체용 급속열처리장비 첫선

제우스는 오는 2월 1~3일 서울 코엑스에서 열리는 국내 최대 반도체 전시회 '세미콘코리아 2023'에서 급속열처리(RTP) 장비(사진)를 선보인다고 26일 밝혔다. 제우스는 올해로 창립 53주년을 맞은 코스닥 시장 상장사로, 반도체·디스플레이용 습식 세정 공정 장비 및 산업용 로봇 전문기업이다.

이 회사가 다음 달 선보이는 RTP 장비 'RHP시리즈'는 특허를 취득한 평직물 구조의 텅스텐 할로겐 램프를 동심원 형태로 구성해 웨이퍼에 열을 균일하게 전달하는 게 특징이다. 체임버 하부에 위치한 3개의 파이로미터(온도 측정 부품)를 통해 회전하는 웨이퍼 온도를 측정함으로써 온도 제어의 용이성을 확보하도록 설계했다는 게 회사 측 설명이다.

제우스 관계자는 "급속 열처리 공정은 단일 웨이퍼 단위로 열처리가 가능한 게 장점이지만 정확한 온도 측정 및 제어, 균일한 온도 유지가 어려운 게 단점"이라며 "RHP 시리즈는 기존 단점을 최소화할 수 있도록 기술을 끌어올렸다"고 말했다. 이어 "실리콘(Si) 웨이퍼뿐 아니라 전기차, 스마트폰, 인공지능(AI), 5G 산업 분야의 차세대 반도체로 각광받는 전력반도체에 사용되는 실리콘카바이드(SiC) 웨이퍼 공정 처리도 가능하다"고 강조했다.

제우스는 RTP를 비롯한 다양한 공정 및 장비를 지난해 경기화성바이오밸리에 구축한 연구·개발(R&D)센터에서 고도화하고 있다. 이곳은 19나노 파티클 측정기, 오존 발생기, 타원분광분석계 등 첨단 분석 및 계측 설비와 고청정 클린룸(클래스1000)을 갖춘 테스트베드다. 제우스 장비를 활용해 신규 공정을 개발하는 것은 물론, 고객사의 라이브 데모, 화학적 분석 및 폴리머 합성 솔루션 등 다양한 팹서비스를 제공하는 공간이라고 회사 측은 설명했다.

김병근 기자 bk11@hankyung.com