중국 반도체 굴기의 아킬레스건은 최첨단 노광장비를 사용할 수 없다는 것이다. 미국은 2019년 ASML의 극자외선(EUV) 노광장비 중국 반입을 엄격히 금지한 데 이어 올 1월엔 심자외선(DUV) 장비까지 수출을 통제했다. 화웨이 등이 DUV를 이용해 신형 스마트폰에 7㎚(나노미터·1㎚=10억분의 1m) 공정으로 생산한 칩을 장착한 것을 겨냥한 조치다.

노광장비는 빛을 웨이퍼에 비춰 미세회로를 새기는 장비다. 5나노 이하 공정 등 회로선폭이 좁은 반도체를 제조하려면 네덜란드 업체인 ASML의 장비가 필수다. 중국 정부는 2020년 8월 노광장비 국산화를 위해 난니완 프로젝트를 발표했다. 난니완은 공산당 팔로군이 일본군을 상대로 항전을 벌인 산시성의 협곡이다. 중국이 노광장비 개발에 얼마나 공을 들이는지 보여준다.

중국 반도체 장비업체 상하이마이크로일렉트로닉스(SMEE)는 자체 기술로 28나노 공정용 노광장비를 개발한 것으로 알려졌다. EUV 장비보다 성능은 떨어지지만 장비를 단기간에 개발했다는 사실이 중국의 잠재력을 보여준다는 평가다. SMEE는 2022년 12월 미국 정부 블랙리스트에 올랐다. 국내 반도체 장비업체 대표는 “미국의 제재로 오히려 중국은 지식재산권, 특허권 등을 지킬 필요가 없어졌다”며 “ASML 장비는 특허가 핵심인데 중국이 수단과 방법을 안 가리면 개발을 못할 이유가 없다”고 말했다.

하지만 중국이 ‘기술 탈취’로 ASML을 따라잡는 것은 불가능에 가깝다는 것이 중론이다. ASML은 네덜란드 기업이지만 EUV에 적용된 수많은 기술은 미국, 유럽 기업들로부터 나온다. 예컨대 EUV 장비의 핵심 부품인 반사 거울은 세계 최고 렌즈 기술력을 보유한 독일 칼자이스가 만든다. EUV 장비 한 대에 900여 개 협력사가 부품을 공급한다.

중국이 EUV 생태계를 통째로 베낄 수는 없을 것이라는 지적이 나오는 이유다.

상하이=박의명 기자 uimyung@hankyung.com