4조3천억 투입한 삼성 독자개발 반도체기술 중국 빼돌리다 덜미

삼성전자 전직 임직원 2명 구속송치…추가적 기술 유출 여부 계속 수사

삼성전자가 수조원을 투입해 독자개발한 핵심 공정기술을 빼돌려 중국에서 반도체 제조업체를 세운 전직 임원이 구속 상태로 검찰에 넘겨졌다.

서울경찰청 산업기술안보수사대는 중국 반도체 제조업체 청두가오전(CHJS) 대표 최모(66)씨와 공정설계실장 오모(60)씨를 구속 송치했다고 9일 밝혔다.

경찰에 따르면 최씨는 2020년 9월 중국 지방정부와 합작으로 회사를 세운 뒤 삼성전자에서 수석연구원을 지낸 오씨 등 국내 반도체 전문인력을 대거 영입해 삼성전자의 메모리 반도체 핵심기술을 유출·부정사용한 혐의(산업기술보호법·부정경쟁방지법 위반)를 받는다.

삼성전자와 하이닉스반도체(현 SK하이닉스) 임원을 지낸 최씨는 20나노급 D램 반도체 제조를 목표로 삼성전자가 독자개발한 공정단계별 핵심기술을 빼돌려 2022년 4월 실제 반도체로서 기능을 측정하는 기초 개발제품 생산을 한 것으로 조사됐다.

오씨는 이 과정에서 삼성전자의 핵심기술을 유출해 청두가오전으로 이직, 공정설계실장으로 일하며 핵심적인 역할을 한 것으로 파악됐다.

유출된 삼성전자의 18나노·20나노급 공정개발 기술의 경제적 가치는 4조3천억원에 이른다고 경찰은 설명했다.

경찰은 삼성전자 등 국내업체에서 청두가오전으로 이직한 다른 임직원도 입건해 추가적 기술 유출이 있었는지 등을 살펴보고 있다.

경찰 관계자는 "국내 반도체 업체 임원 출신이 직접 중국 지방정부와 합작해 국내 기술로 반도체 생산을 시도했다는 점에서 국가경쟁력 약화를 초래하는 등 경제안보의 근간을 뒤흔든 사안"이라고 설명했다.

/연합뉴스