SK하이닉스, 4조8000억 들여 EUV 장비 20대 확보
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하반기부터 이천 M16 공장서
최신 D램 양산에 활용키로
![SK하이닉스, 4조8000억 들여 EUV 장비 20대 확보](https://img.hankyung.com/photo/202102/AA.25512279.1.jpg)
EUV 장비는 네덜란드 장비업체 ASML이 세계에서 유일하게 생산한다. 반도체 원판인 웨이퍼에 회로를 새길 때 활용된다. 회로를 새기는 광원의 파장이 기존 장비와 비교해 14분의 1 수준으로 얇다. 그만큼 회로를 세밀하게 그릴 수 있다. 회로를 새기는 작업을 반복하는 ‘멀티패터닝’ 공정이 줄어드는 것도 장점이다. 반도체 성능과 수율을 끌어올리고 제품 개발 기간을 단축할 수 있다는 평가가 나온다.
EUV 장비는 삼성전자 파운드리사업부, 대만 TSMC 등의 선폭 7㎚(나노미터, 1㎚=10억분의 1m) 이하 초미세공정에 주로 활용된다. 지난해 삼성전자 메모리사업부가 업계 최초로 D램(1세대 10㎚ 제품) 양산에 EUV 장비를 썼다. 올해엔 4세대 10㎚ D램을 EUV 라인에서 양산할 계획이다. SK하이닉스도 이달 1일 준공한 경기 이천 M16 공장에서 올 하반기부터 4세대 10㎚ D램 양산에 EUV 장비를 활용한다.
주요 반도체 업체의 ‘EUV 장비 확보 경쟁’이 더욱 치열해질 것이란 전망이 나온다. ASML이 1년에 제작할 수 있는 EUV 장비는 40대 안팎으로, 공급이 수요를 따라가지 못하는 상황이다. TSMC는 작년 말까지 50여 대, 삼성전자는 10~20대 수준의 EUV 장비를 확보한 것으로 알려졌다.
업계 관계자는 “EUV 장비가 없으면 초미세공정 생산량 확대가 불가능하다”고 설명했다.
황정수/이수빈 기자 hjs@hankyung.com