사진=연합뉴스
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D램 메모리칩 세계 최대 공급업체 중 하나인 SK하이닉스가 중국 공장의 반도체 초미세공정 핵심인 극자외선(EUV) 노광장비를 정비하려는 계획이 미국 반대로 무산될 가능성이 있다는 보도가 나왔다.

18일 로이터통신은 소식통들을 인용해 SK하이닉스가 중국 우시 공장에 네덜란드 반도체 장비 기업 ASML의 최신 EUV 노광장비를 설치해 반도체 제조 공정 수율을 끌어올릴 계획이었으나 미국 정부 반대를 넘을 수 있을지 불투명하다고 전했다.

로이터는 백악관 고위관계자를 인용해 "미국이 SK하이닉스가 중국에 EUV를 가져오는 것을 허용할지 구체적으로 언급하지 않았다"면서도 "바이든 행정부는 중국이 군사 현대화에 도움이 될 첨단 반도체를 제조하기 위해 미국과 동맹국 기술을 사용하는 것을 막고 있는 데 초점을 두고 있다"고 보도했다.

미국은 중국에 첨단 반도체 장비가 도입되면 중국의 군사력 강화로 이어질 것을 우려해왔다. 트럼프 행정부는 2019년 네덜란드 정부에 EUV 기술 판매를 차단하기 위해 로비한 바 있으며 바이든 행정부도 유사한 입장을 취하고 있다.

SK하이닉스는 중국 우시 공장에서 D램 칩의 절반가량을 생산하고 있다. 이는 전 세계 D램 생산량의 15%를 차지한다. 로이터는 SK하이닉스가 이 문제를 해결 못하면 삼성전자나 미국 마이크론과의 경쟁에서 불리한 입장에 놓일 것이며 SK하이닉스가 미중 갈등의 희생자가 될 수 있다고 짚었다.

로이터는 또 관계자의 말을 빌려 "회사는 비용을 절약하고 생산을 가속화하기 위해 EUV가 필요할 것"이라고 설명했다. SK하이닉스는 미국 정부 요구에 따라 이달 초 삼성전자, 대만 TSMC, 마이크론 등 다른 글로벌 반도체 기업들과 함께 미 상무부에 반도체 공급망 자료를 제출하기도 했다.

최수진 한경닷컴 기자 naive@hankyung.com