사진=연합뉴스
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일본의 반도체·디스플레이 수출규제 3개 품목 중 국산화에 가장 어려움을 겪어온 포토레지스트(감광재)의 국내 생산과 국산화가 목전에 다가왔다. 지난 1월 국내에 포토레지스트 공장을 설립한 듀폰코리아가 지난주 첫 양산품 생산을 시작했으면 국내 업체인 동진쎄미켐은 연말께 국산화를 기대하고 있다.

배영철 듀폰코리아 부사장은 9일 경기도이천 SK하이닉스 공장에서 문재인 대통령이 참석한 '대한민국 소재ㆍ부품ㆍ장비들과의 대화'에 참석해 " 지난 6~7개월 동안 임직원들이 불철주야 노력한 끝에 지난주에 포토레지스트리 양산품 나왔다"고 말했다. 배 부사장은 "양산 적용 평가를 진행해 문제 없으면 국산 포토레지스트가 들어간 반도체칩이 나오게 될 것"이라고 자신했다.

포토레지스트는 반도체 최고 공정인 극자외선(EUV)반도체공장 들어가는 감광재로 지난해 7월 일본의 수입규제에 들어간 3개 반도체·디스플레이 소재 가운데 핵심이다. 반도체 식각 소재인 고순도 불화수소(에칭가스)와 플루오린 폴리이미디는 국산화에 성공해 일본 제품을 대체하고 있지만 포토 레지스트는 기술장벽때문에 국산화에 애를 먹었다.

극자외선 공정에 들어가는 포토레지스트는 그동안 전략 수입에 의존해왔다.일본의 반도체 소재 수출 규제 타개를 위해 산업통산자원부는 지난 1월 글로벌 화학소재기업인 듀폰과 국내에 극자외선(EUV)용 포토레지스트 생산시설 투자협약을 맺었다.

배 부사장은 "지난 1년은 듀퐁 본사의 전력지원과 국내 기업들의 적극적 협조, 정부의 발로 뛰는 행정이 있어 대한민국 소부장에 외국인 기업도 할 일 있다는 것을 보여줬다"며 "진입장벽이 높은 산업에서는 외국인투자기업에서 징검다리가 돼 줄 수 있다"고 말했다.

SK하이닉스와 포토레지스트 개발 협업을 진행중인 동진쎄미켐은 연말까지 국산화를 기대하고 있다. SK하이닉스의 포토레지스트 협력공정 시찰 도중에 양산시점을 묻는 문 대통령의 질문에 동진쎄미켐 연구관계자는 "하이엔드급 포토 레지스트는 SK하이닉스 연구원들과 같이 작년 10월부터 개발중에 있다"며 "굉장히 어려운 작업이지만 많은 지원과 협력으로 연말까지 양산적용에 반드시 성공하겠다"고 답했다.

동진쎄미켐은 반도체용 포토레지스트를 세계에서 4번째로 개발하는 데 성공한 국내 업체이다. 지난해 부품소재 수출 규제가 시작된 이후 SK하이닉스와 손잡고 일본 업체가 90%를 독점하고 있는 극자외선(EUV) 공정의 포토레지스트 개발에 나섰다.
문 대통령은 "소부장 주요 기업들이 스스로 공유인프라 만들어서 노력한 덕분에 우리가 일본의 수출규제를 극복해낼 수 있었고 이제는 더 큰 소부장 강국으로 갈 수 있게 됐다"고 격려했다.

김형호 기자 chsan@hankyung.com