0.8미크론선폭 기술개발...내년초부터 양산체제로

4메가D램의 생산수율이 20%수준에 달하는 양산기술이 국내기술진에 의해 최근 개발됐다. 8-9일 2일간 충남대덕연구단지내 한국전타통신연구소(ETRI)에서 체신부 한국전기통신공사관계자 연구소요원등 600여명이 참가한 가운데 열린 통신분야주요연구결과발표회에서 김정덕단장(ETRI 반도체 기술연구단)은 국내산업체와공동추진중인 초고집적 반도체기술개발결과보고를 통해 "0.8미크론선폭의 4메가D램을 수율 20%수준으로 생산할 수 있는 기술개발에 성공했다"고 보고했다. 이에따라 우리나라는 2-3년내에 본격 전개될 4메가D램시대에 대응할 수 있게 됐다고 김박사는 내다보고 "4메가의 수율 20%수준은 반도체수요자에게 주문을 받을 수 있는 수준이기 때문에 이연구에 공동참여한 관련기업들은 현재이의 양산설비를 갖추어가고 있다"고 말했다. 이번 기술개발성공과 기업의 관련 설비투자확대로 빠르면 내년초부터 4메가D램의 양산이 이뤄질 것으로 보이는데 연구팀등은 그때까지는 수율도 30%수준을 넘을 수 있게 될 것이라고 전망했다. 국내기술진의 4메가D램 양산성공에 대해 "이의 양산시제품 출하단계인 일본에 비해서는 우리의 기술수준이 뒤져있으나 미국 유럽등과는 비슷한 수준에있음을 입증한 것"이라고 전문가들은 평가하고 있다.