제품의장 모방규제 대폭 강화...특허청 새제도 도입

제품의 의장을 모방하는데 대한 규제가 대폭 강화된다. 3일 특허청에 따르면 제품종류의 증가및 다양화로 의장모방사례가 늘고있는데도 현행법으로는 이에 대응할 수 없다는 업계의 불만이 높아짐에 따라 의장모방을 강력히 규제하기위한 제도를 도입하기로 했다. 이와 관련,우선 출원공개제도를 통해 출원후 등록되기전의 의장이라도 모방자에 대해 보상금을 청구할 수 있도록 하는 방안을 도입할 계획이다. 또 출원된 의장을 제3자가 허락없이 도용하거나 도용준비에 있을 경우 출원인이 신청하면 우선심사를 통해 의장을 빨리 등록해줘 의장권을 신속히 갖도록 하는 방안도 추진되고있다. 현행 특허법으로는 특허와 실용신안은 출원을 공개하면 제3자가 모방할 때 이에 대해 보상금을 청구할 수 있도록 하고있다. 그러나 의장은 그 특성상 모방이 용이해 출원공개제도가 없고 등록전에는비밀유지의 책임을 본인에게 두고있다.