일본 NEC, 첨단 256메가D램 칩 생산..회로간격 0.25미크론

일본 NEC는 오는 98년3월말까지 큐슈반도체공장에 1천억엔을 추가로 투자,2백56메가D램칩 생산라인을 갖출 계획이라고 29일 밝혔다. 이회사는 이공장에서 생산되는 2백56메가D램칩은 회로간격을 0.25미크론(1미크론은 1백만분의 1m)으로까지 줄이는 첨단기술이 사용될 것이라고 말했다. NEC는 이날 또 큐슈공장의 세계 최초로 회로간격을 0.3 5미크론으로 줄이는 기술을 사용,64메가D램을 생산할 제8라인을 준공했다고 밝혔다. 이생산라인에는 9백50억엔이 투자됐으며 현재는 월간 8인치 웨이퍼를 8천장 생산할수 있는데 내년 3월까지는 생산능력을 1만5천장으로 늘릴 계획이다. 이라인에서는 16,64메가D램은 물론 대용량의 집적회로를 생산하게 된다. NEC는 이로써 오는 96년까지는 제8라인에서 월간 3만장의 웨이퍼를 생산하게 되며 0.2 5미크론 기술을 활용하는 2백56메가D램 라인이 완공될 경우,와이퍼 생산량은 모두 6만장으로 늘어나게 된다. (한국경제신문 1994년 11월 30일자).