오존층 파괴물질 정화기술 개발...삼성정밀화학
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삼성정밀화학은 포항공대와 공동으로 오존층 파괴물질인 사염화탄소(CCl4)를 완전히 처리,재활용할수 있는 촉매기술을 개발했다고 28일 발표했다. 지난 97년부터 10억원을 들여 개발한 이 오존층 파괴물질 청정화 기술은 사염화탄소를 클로로포름으로 전환하는 촉매처리기술이다. 삼성정밀화학은 이 기술개발과 관련해 3건의 국내 특허 출원을 끝마쳤다. 또 한국생산기술연구원과 상업화를 위한 생산기술개발사업 협약도 체결했다. 사염화탄소는 냉매및 스프레이용 분사체 등으로 사용되는 프레온가스의 기초원료다. 오존층 파괴물질 규제 국제협약인 몬트리올 의정서에 따르면 사염화탄소는 오는 2005년부터 생산및 판매가 완전금지된다. 삼성정밀화학측은 "선진국에서도 아직 사염화탄소 청정화 기술 상용화가 이뤄지지 않아 전량소각하고 있는 실정"이라며 "이번 기술개발로 환경보호는 물론 국내에서만 연간 30억원 이상의 소각처리 비용을 절감할 수 있게 됐다"고 밝혔다. ( 한 국 경 제 신 문 1999년 6월 29일자 ).