한- 일 특허심사 협력 구축

특허청이 특허심사와 관련, 일본과 협력체제를 구축한다.

특허청은 14일 한-일 양국에 공통으로 특허출원이 될 경우 특허출원에 대한 특허권 부여 여부를 판단하기 위한 선행기술조사 결과를 서로 제공함으로써 협력하는 방안을 마련, 이달부터 시범적으로 실시하기로 했다.

이에 따라 올 상반기에는 전기.전자분야에 대한 한.일 특허청의 심사관이 디스플레이 패널관련 기술분야에서 공동 선행기술조사 사업을 시범적으로 실시하고 내년부터는 조사분야 및 물량을 단계적으로 확대해 나갈 방침이다.

한편 지난 98년 한국에서 일본으로 출원한 건수는 약 3천건이며 일본이 한국에서 출원한 건수는 약 1만건에 달한다.

특허청 관계자는 "이번 협력체제 구축으로 특허청의 심사부담을 경감시켜 심사의 수준을 높일 수 있다"며 "심사처리기간 단축에도 기여할 수 있을 것으로 기대된다"고 말했다.

[한국경제]