극저온 CO2 세정기술 개발 .. 케이씨텍

반도체 장비업체인 케이씨텍(대표 고석태·권봉수)이 반도체 웨이퍼 등의 세정으로 인해 생기는 오염을 방지하는 친환경공법인 '극저온 CO2 드라이아이스 세정기술'을 개발했다고 18일 밝혔다. 이 기술은 CO2(이산화탄소)가스의 변화에 의해 생겨난 드라이아이스 입자를 오염된 표면에 고속 충돌시켜 오염물을 제거하는 방식이다. 드라이아이스는 오염물을 제거하고 승화된다. 케이씨텍 관계자는 "이에 따라 세정용 가스 등에 의해 생기는 재오염을 방지할 수 있다"며 "앞으로 반도체장비와 디스플레이,각종 정밀제품 등의 표면 오염을 제거하는 데 사용될 것"이라고 말했다. 이 장비는 기존 습식세정에 비해 세정시간을 단축시켰으며 이산화탄소와 질소 등 용매를 구하기 쉬워 비용절감 효과도 높은 편이라고 회사측은 설명했다. 고경봉 기자 kgb@hankyung.com