국민대 조진한 교수팀, 저장능력 높인 메모리 신공정 개발

국내 연구진이 고분자 물질과 금속 나노입자를 붙인 실리콘 기판을 층층히 쌓아올리는 공정 기술을 개발했다.이 기술이 상용화될 경우 비휘발성 메모리의 저장 능력이 획기적으로 개선될 수 있을 것으로 보인다.

국민대 조진한 교수팀은 고분자ㆍ금속 나노입자의 다층박막 구조를 가진 플래시 메모리소자를 자기조립법으로 제조하는 공정을 개발했다고 3일 밝혔다.이 연구 성과는 3일자 네이처 나노테크놀로지 온라인판에 실린다.

조 교수는 이번에 개발한 자기조립법이 기존 단일층 메모리소자 제조공정보다 단순하고 메모리 저장 역할을 하는 금속 나노입자의 밀도를 용액의 산성도(pH)나 나노입자 크기 등을 통해 조절할 수 있어 저장 능력을 높이고 전기적 성질 등을 쉽게 제어할 수 있다고 설명했다.

오춘호 기자 ohchoon@hankyung.com